真空镀膜机的构成和不良反应该怎么解决

多功能真空镀膜机是磁控溅射、多弧离子镀膜和蒸发镀膜的混合设备。在多弧离子镀膜机的基础上，配以圆柱形靶材或平面磁控管靶材。该设备具有离子镀的高电离率和高堆积速度的特点。它还具有低温和磁控溅射稳定性的优点。适用于各种复合膜的电镀。

多功能真空镀膜机：磁控管、中频、多弧离子镀膜

① 发汗磁控溅射混合设备：多功能，适合批量生产，适应性强。

② 磁控溅射与多弧离子镀的混合应用：多弧可提高火炮清洗质量，增加薄膜与基体的附着力。与磁控溅射结合，可以制备复合膜（高能离子源清洗活化，成膜速度快）。

③ 多中频磁控溅射靶与柱弧离子镀的混合应用：中频靶更稳定（如铝），电离率高，堆积速度快，成膜均匀。如反应溅射，如镀SiO2、TiO2等，用不同的原材料多层镀膜。

④ 射频、直流、中频、柱弧混合应用：射频可直接涂覆绝缘保护膜SiO2/Ag/SiO2

⑤ 圆柱弧、中频弧和多弧混合应用：圆柱弧确保高电离率，减少大颗粒的积聚，具有良好的附着力和表面光洁度。多功能真空镀膜机适用于表带、表壳、眼镜架、手机壳、高尔夫工具、卫浴、首饰等中高档产品。

改进措施：

一是加强脱脂去污处理。如果是超声波清洗，应注重脱脂功能，保证脱脂液的有效性；如果是手搓，可以考虑用碳酸钙粉擦拭后再清洗。

二是镀前加强烘烤。如果条件允许，基板温度比较好保持在300以上℃ 保持20分钟以上，以便尽可能多地挥发基材表面的水蒸气和油蒸气*注：温度越高，基材的吸附容量越大，且容易吸附灰尘。因此，应提高真空室的清洁度。否则，镀前会有灰尘附着在基体上，不仅会造成其它缺陷，还会影响膜层强度（基体上水汽的化学脱附温度在260以上）℃ 在真空中。但并非所有零件都需要高温烘烤。一些硝酸盐材料在高温下膜强度较低，会出现色斑。它与应力和材料热匹配有很大关系。

3.在条件允许的情况下，机组配备PolyCold，不仅可以提高机组抽真空速度，而且有助于去除基体上的水蒸气和油气。

四是提高蒸发真空度。对于1米以上的涂布机，蒸发起始真空度应大于3*10-3pa。涂布机越大，开始蒸发的真空度越高。

5.在条件允许的情况下，在机组内安装离子源，镀前进行轰击，清洗基体表面，辅助涂装工艺，有利于镀层的致密性和牢固性。

六膜材料除湿，将培养皿中使用的膜材料放入真空室中干燥。

7.保持工作环境干燥（包括擦拭镜片和雨伞工作区），清洁工作环境时不要带入过多的水蒸气。

8.对于多层膜，在设计膜系时，应考虑第1层膜与衬底的匹配，尽量考虑使用对大多数衬底具有良好吸附能力的Al2O3膜材料。对于金属膜，也可以考虑第1层Cr或Cr合金。铬或铬合金对基体也有良好的吸附能力。

9.用抛光液（抛光液）去除镜片表面的腐蚀层（水解层）

同时，降低蒸发速率有利于提高膜的强度和膜的表面光洁度。

② 薄膜应力：

薄膜的成膜过程是物质形态转变的过程。成膜后，薄膜中不可避免地会产生应力。对于多层膜，膜材料有不同的组合，每个膜所反映的应力不同，有的是拉应力，有的是压应力，还有膜与基体的热应力。

应力的存在对薄膜的强度是有害的。轻的是薄膜不能抵抗摩擦，重的是薄膜破裂或网状通道。

对于减反射膜，由于层数较少，应力不明显，高反射膜和多层滤膜的应力是常见的不利因素，应特别注意。

改进措施：

烘烤后电镀，烘烤后最后一层薄膜，不要立即停止，继续10分钟“回火”。薄膜结构趋于稳定。

二是适当延长冷却时间，进行退火时效。降低真空室内外温差大引起的热应力。

三对高反射膜和滤膜在蒸发过程中基板温度不宜过高，温度过高容易产生热应力。对氧化钛和氧化钽薄膜的光学稳定性也有负面影响。

3.离子辅助涂层工艺，降低应力。

第四，选择合适的膜系匹配，第1层膜材与衬底匹配（例如，五层减反射膜为al2o3-zro2-al2o3-al2o3-zro2-mgf2；ZrO2也可以使用sv-5（一种ZrO2-TiO2混合薄膜材料）或其他混合高折射率薄膜材料。。

5.适当降低蒸发速率（al2o3-2.5a/s；ZrO2-3A/S；Mgf2-6a/S（参考速率）

六对氧化膜材料均为充氧反应镀，并根据不同的膜材料控制氧气进气量。