真空镀膜设备离子镀膜上的创新方法

2021-06-19 17:30:34

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真空电镀设备多弧离子电镀上的创新方法，多弧离子电镀是指将电镀材料和电镀基板放在室内，真空电镀机多弧离子电镀采用一定的方法加热电镀材料，蒸发或升华，飞溅到电镀基板表面凝聚成膜的技术。

多弧离子电镀的方法，在条件下成膜有很多优点，可以减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板的过程中与分子的冲突，减少气体中的活性分子和蒸发源材料之间的化学反应(氧化等)，减少成膜的过程中气体分子进入基板成为杂质的量，提供基板的致密度、纯度、沉积速度和基板的附着力。

真空镀膜设备创新方法

真空电镀设备多弧离子电镀技术不仅避免了传统表面处理的不足，而且各技术指标优于传统技术，广泛应用于五金、机械、化工、模具、电子、仪器等领域。催化液与传统处理技术相比，技术上有什么创新？

1、多弧离子电镀不用电，降低成本，成本仅为多弧离子电镀镍的二分之一，真空电镀机多弧离子电镀铬的三分之一，不锈钢的四分之一，可以反复利用，大幅度降低成本。

2、多弧离子电镀操作简单，工艺简单，将金属基件浸入混合液体中一泡即可，需要再加工时不予处理。

3、多弧离子镀膜无污染，无毒无味，无三废排放，属国家环保产品工艺。

4、多弧离子电镀处理方便，易于使用的形状复杂的金属基件均可处理。

5、多弧离子电镀硬度大，硬度增强，催化液泡过的金属基件硬度是多弧离子电镀技术的数倍。

6、多弧离子电镀不生锈，浸泡在催化液中的金属基件渗透到表皮中，不脱皮，不脱落。