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为了满足各种多层薄膜和复合膜的要求，多功能复合离子镀膜机已成为目前研究发展的方向和热点。复合离子镀膜机采用双目标先进技术，克服了直流溅射固有的目标中毒、起火等不良缺点，可以镀AL2o3、SiO2氧化优质膜，提高镀层抗氧化耐腐蚀性。
复合离子镀膜机中心安装柱状多弧靶，靶为钛或锆。它不仅能保持多弧技术离化率高、沉积率高的特点，还能有效减少小平面多弧靶沉积过程中不可避免的液滴缺陷，从而制备低孔隙率的金属膜或化合特膜；双胞胎平面磁控靶安装在周围，目标是铝或硅，可以镀Al2O3和SiO2金属陶瓷膜；中外，周围安装多个小平面多弧蒸发源，目标是铬或镍，可以镀多层金属膜和多层复合膜。
复合离子镀膜设备具有多种不同形式的镀膜装置和不同材料的蒸发源和发射靶，既能独立工作，又能同时工作，既能制备纯金属薄膜，又能制备金属化合物薄膜或复合材料薄膜，既能制备单层薄膜，又能制备多层复合薄膜，广泛。
多弧离子镀技术以其独特的优势得到了广泛的应用。随着科学技术和生产的发展，它将继续开拓其应用领域。根据目前的情况，该技术将在以下几个方面发展很大:
1)新型高效可控弧靶，包括新型电源；
2)除DC外的其他偏压电源；
3)结合非平衡磁控溅射技术的新型蒸发器；
4)整体结构形式多样；
5)通过计算机辅助设计和控制实现技术多样化。
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