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真空镀膜的工作原理是膜在高温下蒸发，落在工件表面结晶。由于空气对蒸发的膜分子产生阻力，造成碰撞，晶体变得粗糙无光，因此晶体必须在高真空下细密明亮。如果真空度不高，晶体就会失去光泽，结合力也很差。早期真空镀膜依靠蒸发体自然散射，结合效率低，光泽差。现在加上中频磁控溅射靶，磁控溅射锆在电场的作用下加速了膜的蒸发分子的轰击，溅出了大量的靶原子，中性靶原子(或分子)沉积在基底上成膜，解决了以往自然蒸发不能加工的膜品种，如镀钛镀锆等。
由于其频率高、电流大，中频设备必须加入冷却水。当导体流动时，电流具有集肤效应，电荷会聚集在导体表面，从而使导体发热，因此采用中孔管作导体中间加水冷却。
磁控控制溅射靶，为什么还要用水冷却？磁性控制溅射靶在发射过程中会产生高温，从而使射枪变形，因此它有一个水套来冷却射枪。与此同时，磁控溅射也是电镀技术中最突出的成就之一。其溅射率高，基片温度升低，膜-基结合力好。
对电子在非均匀电磁场中的运动规律进行了深入的研究，探讨了磁控溅射的一般原理，以及磁场的横向不均匀性和对称性，这是磁约束的根本原因。磁性控制溅射是镀膜工艺中最突出的成就之一。其溅射率高，基片温度升低，膜-基结合力好，设备性能稳定。
冷却器是一种水冷设备，可以提供恒温，恒流，恒压的冷却器。它的工作原理是先向机器内的水箱注入一定量的水，通过制冷系统将水冷却，然后由泵将低温冷却水输送到需要冷却的设备中，冷冻水带走热量后，温度升高，再回流到水箱中，达到冷却的效果。可以根据需要自动调节冷却水温度，长期使用可以节省用水。
冷却器可以控制真空镀膜机的温度，保证镀件的优质。若不配备冷水机，则无法使真空镀膜机达到高精度、高效率地控制温度的目的，因为自然水和水塔的散热必然会受到自然温度的影响，而且这种控制方式非常不稳定。
冷水机组有完全独立的制冷系统，不受温度和环境的影响。水温在5℃~30℃范围内调节控制，可以达到高精度高效控制温度的目的。冷水机组有独立的水循环系统。
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