磁控溅射靶为什么在发射过程中会产生高温

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面。它以真空技术为基础，利用物理或化学方法，吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控管等一系列新技术，使薄膜成为一种新的制备工艺。简单地说，它是一种将金属、合金或化合物在真空中蒸发或溅射，使其固化并沉积在被涂基材上的方法，称为真空涂层。真空镀膜是一种需要在较高真空度下进行的镀膜，包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积等。

在真空镀膜过程中，磁控溅射靶在发射过程中会产生高温，导致靶体变形，因此磁控溅射靶体有水套来冷却靶体。

为了保证水套内的水温不受环境和自然温度的影响，通常需要使用冷水机对真空镀膜机进行冷却。真空镀膜冷水机可将水温稳定在5℃~30℃，进行调节和控制，有效控制真空镀膜机的温度，提高镀膜件的质量。薄膜是在真空中制备的，包括简单或复合薄膜，如结晶金属、半导体和绝缘体。

化学气相沉积虽然也采用减压、低压或等离子等真空方法，但真空镀膜一般是指沉积薄膜的物理方法。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜。真空镀膜的通用性也决定了其广泛的应用范围。总的来说，真空镀膜的主要作用是使镀膜零件表面具有高度的金属光泽和镜面效果，使镀膜对镀膜材料具有优异的阻隔性能，并具有良好的电磁屏蔽和导电效果。