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真空镀膜的作用主要是给镀零件的表面高度的金属光泽和镜像效果,尤其是对汽车灯罩,它有一个非常重要的聚光效果,其次给屏障性能优良的涂料层,提供良好的电磁屏蔽和导电性的影响。根据制备气相金属的方法和镀膜的沉积方法，将真空镀膜分为热蒸发镀膜法和磁控溅射镀膜法两种工艺。其中磁控溅射法具有涂层层与基体结合力强、涂层致密均匀等优点，具有较大的技术优势。真空镀膜技术是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物(通常为非金属)以蒸汽的形式沉积在材料的表面。它是一种物理气相沉积过程，因为涂层往往是铝、锡、铟等金属的薄膜，所以也称为真空金属化。
磁控溅射是一种物理气相沉积方法，用于制备各种材料的薄膜，如金属、半导体和绝缘体。在实际的镀膜过程中，沉积速率、溅射功率、溅射时间、靶材与基体之间的距离、工作压力等都会影响到镀膜的质量和厚度。在磁控溅射镀膜中，随着使用次数的增加，靶材被消耗，靶基距离增大。
在其他参数不变的情况下，被涂膜逐渐不能满足要求。磁场的均匀性影响薄膜的均匀性。如果磁场不对称，镀层的位置就会改变。磁控溅射是20世纪70年代在阴极溅射的基础上发展起来的一种新型溅射镀膜方法。由于它有效地克服了阴极溅射率低和基片因电子而温度升高的缺陷，得到了迅速发展和广泛应用。
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