磁控溅射镀膜是什么

2020-11-14 11:25:53

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磁控溅射镀膜是一种先进的表面装饰镀膜技术。将薄膜材料制成阴极圆柱形磁控管旋转靶，置于镀膜室中心，在电压(DC或脉冲)作用下，通入工作气体产生真空辉光放电，在360℃辐射镀膜。靶材利用率高，工作温度低，可用于在金属或非金属(塑料、玻璃、陶瓷等)上镀铝、铜、铬、镍、钛、金、银和不锈钢薄膜。)工件。通过引入反应气体可以镀制各种复合膜。该涂层具有均匀、致密、附着力强、衍射好的特点，广泛应用于家电、钟表、工艺品、玩具和车灯

磁控溅射镀膜是什么

涂覆靶是一种溅射源，其在适当的工艺条件下通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的涂覆系统在基底上形成各种功能膜。简单来说，靶材就是高速带电能量粒子轰击的靶材，用于高能激光武器。当不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同目标相互作用时，会产生不同的杀伤和破坏效果。比如蒸发磁控溅射镀膜就是加热蒸发镀膜，铝膜等。通过更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛和镍靶材等。)，不同的膜系(如超硬、耐磨、耐腐蚀合金膜等。)即可获得。。目标回收具有成本低、密度高、防潮性强、耐腐蚀、环保等特点。