真空镀膜技术是指在真空环境下,以气相的形式在材料(通常为非金属)表面沉积金属或金属化合物,属于物理气相沉积技术。因为涂层通常是铝、锡和铟等金属的薄膜,所以也称为真空金属化。真空镀膜的作用主要是赋予被镀膜件表面高的金属光泽和镜面效果,特别是在汽车灯罩中,其次是赋予涂层优异的阻隔性能,提供优异的电磁屏蔽和导电效果。
根据产生和沉积蒸汽金属的不同方式,真空镀膜可分为热蒸发镀膜和磁控溅射镀膜两种工艺。其中,磁控溅射法因其涂层与基体的附着力强、涂层致密均匀等优点而具有更多的技术优势。真空镀膜材料主要是金属和金属氧化物。金属模具涂层材料包括铝、锡、铟、钴、镍、铜、锌、银、金、钛、铬、钼、钨等;合金镀层材料包括镍铬、镍铁、铁钴、金银金等。金属化合物包括二氧化硅、二氧化钛、二氧化锡等。其中,铝的应用最为广泛。这主要是因为铝的蒸发温度低,操作方便,对塑料的附着力好,对紫外线和气体的阻隔性强,价格低廉。
真空镀膜具有多种功能,这决定了它的广泛应用。真空镀膜的主要作用是赋予被镀膜件高的金属光泽和镜面效果,使膜层对膜材料具有优异的阻隔性能,提供优异的电磁屏蔽和导电效果。真空镀膜技术是指在真空环境下,金属化合物以气相的形式沉积在材料(通常是非金属材料)表面,是一种物理气相沉积工艺。因为涂层往往是金属膜,所以也变成真空金属化。