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在镀膜领域，镀膜后薄膜样品的厚度是影响薄膜性能的重要因素。因此，在评估薄膜样品的性能时，有必要测试不同厚度下薄膜样品的性能。在真空镀膜的情况下，往往需要多次准备样品。但是这么多次制备样品有两个问题:一，对于不同时间生长的样品，仪器的状态是不同的，所以影响薄膜样品性能的因素可能不仅仅是厚度；其次，在真空镀膜实验中加载样品时，再次获得真空是非常耗时的。和检测成本增加。
真空镀膜是一种需要在高真空度下进行的镀膜，包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积等。在真空镀膜过程中，磁控溅射靶在发射过程中会产生高温，使发射变形，所以它有水套来冷却发射。为了保证水套内的水温不受环境和自然气温的影响，通常需要使用冷水机对真空镀膜机进行冷却。
使用电子镀膜时，在钟罩外围要放一块铝板。观察窗的玻璃应采用铅玻璃，观察时应佩戴铅玻璃眼镜，防止x光对人体造成伤害。2.在离子轰击和蒸发过程中，要特别注意高压线接头，不要触碰，以防触电。1.真空镀膜机正常运行时，必须先打开水管，工作中要注意水压。
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